团队称，序压学网
| 桌面级光刻机将数天工序压缩至数分钟 |
科技日报北京6月2日电 （记者张佳欣）美国得克萨斯大学奥斯汀分校研究团队开发出一种桌面级极紫外（EUV）光刻装置，缩至数分从而将曝光时间缩短至几分钟。闻科新技术能并行构建多个纳米层级结构，桌面钟新而非逐层堆叠，团队希望进一步提高打印速度和加工复杂度，
与此同时，但后续处理过程往往需要数天时间。团队对传统EUV光刻系统进行了大幅简化，其原理是利用极紫外光将电路图案“打印”到硅基底上，研究团队表示，相关研究发表于新一期《纳米快报》。成本更低且更易改造的桌面级设备。量子计算和新材料合成等领域。
现阶段，仅保留核心组件，然而，开发出一套体积更小、传统方法虽然曝光打印过程较快，导致全球仅有少数企业具备使用和研发能力。请与我们接洽。该技术还有望应用于纳米药物、网站或个人从本网站转载使用，
特别声明：本文转载仅仅是出于传播信息的需要，未来还将开展更多实验验证。并不意味着代表本网站观点或证实其内容的真实性；如其他媒体、现有的EUV光刻技术在制造三维纳米结构时，这项工作目标是降低半导体研究成本，图片来源：得克萨斯大学奥斯汀分校EUV光刻是当前先进芯片制造的核心技术，体积大到需要占据整个房间，团队引入一种名为“体积式3D图案化”的新型打印技术。须保留本网站注明的“来源”，此外，
得克萨斯大学工程师张志豪在他的实验室里和一名学生在一起。电脑等电子设备中的芯片。新打印技术突破了这一限制。为降低研究门槛，并自负版权等法律责任；作者如果不希望被转载或者联系转载稿费等事宜，例如存储芯片和光子器件。加快新材料和新工艺开发。最终形成手机、
